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Entwicklung eines PVD-Metallisierungskonzeptes für industrielle rückseitenpassivierte und -kontaktierte Silicium-Solarzellen.

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Pages: 222

Language: German

Format: Eine elektronische Version eines gedruckten Buches - Unterstützte Lesegerätegruppen: PC/MAC/eReader/Tablet

Publisher: Fraunhofer Verlag (1 Mar. 2017)

By: Julia Kumm(Author)

Fü:r die rü:ckseitige Metallisierung von hocheffizienten Silicium-Solarzellen bietet eine aufgedampfte Al-Metallisierung hervorragende optische und elektrische Eigenschaften und daher fü:r eine Vielzahl von hoch- und hö:chsteffizienten Zellkonzepten Vorteile gegenü:ber einer industriell etablierten Siebdruckmetallisierung. Obwohl Zellmetallisierungsverfahren mit physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD) in der Forschung seit langem etabliert sind, besteht noch entscheidender Entwicklungsbedarf hinsichtlich der Ansprü:che einer industriellen Anwendung. Diese scheiterte bislang insbesondere daran, dass eine PVD-Metallisierung aus Aluminium nicht mit den etablierten Zellverschaltungsverfahren, wie einem konventionellen Lö:tprozess, kompatibel ist. In dieser Arbeit werden insbesondere Herausforderungen hinsichtlich einer ausreichenden Haftung der aufgedampften Aluminium-Schicht auf gä:ngigen Passivierschichten, hinsichtlich unerwü:nschten Aluminium-Diffusionsprozessen und bezü:glich der Langzeitstabilitä:t, Strukturierbarkeit und Kosteneffizienz adressiert und gelö:st. Als Resultat wird eine lö:tbare und industriell anwendbare PVD-Rü:ckseitenmetallisierung fü:r Silicium-Solarzellen prä:sentiert.

Originalfassung in deutscher Sprache von als PDF zum kostenlosen Download findet


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